精密仪器研发与制造 / 始于 2005400-8127-833

KNOWLEDGE

边缘保持:镶嵌选择、填充与磨抛参数对边缘观察的影响

分析镶嵌材料、填充与镀层保护、磨抛参数对边缘圆角的影响,给出保持边缘平直的实用策略。

镀层厚度测量、渗层深度测定、表面缺陷分析等检验都要求在样品边缘获得清晰、无圆角的截面。边缘保持不良会使边缘组织模糊甚至丢失,是截面制样中最需要主动控制的环节之一。

镶嵌材料与边缘圆角

边缘圆角源于镶嵌料与试样在硬度和去除速率上的差异:软镶嵌料磨损快,试样边缘失去支撑而被磨圆。应选用收缩率低、硬度与试样匹配的热镶嵌料;含矿物或玻璃纤维填充的镶嵌料耐磨性更好,可显著改善边缘平直度。对脆性或多孔试样,可采用真空冷镶嵌(环氧树脂)浸渗固定,兼顾填充与保护。

填充与镀层保护

在镶嵌料中添加陶瓷粉、玻璃珠等硬质填料,或在样品旁放置与试样硬度相近的支撑垫片,可均衡去除速率。薄镀层试样可先加镀一层较厚的、硬度相近的金属(如化学镀镍)作为保护再镶嵌,防止磨抛中镀层剥落。断面与孔隙类样品宜用真空浸渗环氧填充内部孔隙,避免磨料嵌入与交叉污染。

磨抛参数控制

磨抛方向应使边缘处于受压而非受拉拔状态,即让磨削方向朝向试样内部,每道之间旋转样品时保持这一原则。压力适中、磨料锋利,避免长时间在软抛光布上精抛,末道抛光用短绒或无绒硬布。磨抛头与底盘同向旋转比反向更有利于边缘平直,具体参数应结合材料硬度与镶嵌料性质调整。

实用要点

  • 选用低收缩、含填充料的镶嵌料,硬度与试样匹配。
  • 薄镀层先加镀保护层,多孔试样真空浸渗。
  • 让边缘处于受压方向,压力适中、磨料锋利。
  • 末道用短绒硬布并缩短时间;具体参数以样品评估和实际操作规程为准。

研润应用学习资料 · 具体工艺以样品评估和操作规程为准。

LET’S TALK ABOUT YOUR SAMPLE

从您的样品开始,找到合适的方案。

联系应用工程师 ↗
✧ 产品助理